发明名称 雷射测量仪
摘要 一种雷射测量仪,包含一底座单元、一外壳单元,及一雷射投射单元,该外壳单元具有一装设于该底座单元上的壳体,及一沿一第一铅直参考面而设置于该壳体上的投射窗台,该投射窗台具有一平行于该第一铅直参考面的前侧面,及二介于该前侧面与该壳体之间且彼此夹一夹角的第一投射窗口,该雷射投射单元是装设于该外壳单元内,该雷射投射单元可从该等第一投射窗口各投射出一扇形光束,而可在一封闭空间内形成一平行于该第一铅直参考面的第一雷射线框。
申请公布号 TWM268156 申请公布日期 2005.06.21
申请号 TW093220479 申请日期 2004.12.20
申请人 汉威仪器有限公司 发明人 叶正松
分类号 B25H7/04;G01C9/00 主分类号 B25H7/04
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种雷射测量仪,包含: 一底座单元; 一外壳单元,具有一装设于该底座单元上的壳体, 及一沿一第一铅直参考面而设置于该壳体上的投 射窗台,该投射窗台具有一实质上平行于该第一铅 直参考面的前侧面,及二介于该前侧面与该壳体之 间且彼此夹一夹角的第一投射窗口;及 一雷射投射单元,是装设于该外壳单元内,该雷射 投射单元可从该等第一投射窗口各投射出一扇形 光束,而可在一封闭空间内形成一平行于该第一铅 直参考面的第一雷射线框。 2.根据申请专利范围第1项之雷射测量仪,其中,该 壳体具有一实质上平行于该第一铅直参考面的纵 向平面,该投射窗台是沿该第一铅直参考面而设置 于该纵向平面上。 3.根据申请专利范围第2项之雷射测量仪,其中,该 投射窗台更具有一设置于该等第一投射窗口之间 且位于该等第一投射窗口上方的第二投射窗口,该 第二投射窗口是朝上倾斜地朝向该第一铅直参考 面,该雷射投射单元可从该第二投射窗口投射出一 扇形光东,而在该封闭空间内形成一平行于一与该 第一铅直参考面垂直的第二铅直参考面的第二雷 射线框。 4.根据申请专利范围第3项之雷射测量仪,其中,该 投射窗台更具有二设置于该前侧面与该纵向平面 之间且彼此夹该夹角的上斜侧面,及一设置于该等 上斜侧面之间且位于该等上斜侧面上方的前斜侧 面,该前斜侧面是从该前侧面朝该纵向平面倾斜地 向上延伸,该等第一投射窗口是分别形成于该等上 斜侧面上,该第二投射窗口是形成于该前斜侧面上 。 5.依据申请专利范围第4项所述之雷射测量仪,其中 ,该夹角是呈45度。 6.依据申请专利范围第1项所述之雷射测量仪,其中 ,该底座单元具有一底座体、一可移动地装设于该 底座体的顶面上的承载座体,及数装设于该座底体 的底面上的支脚组,该外壳单元是装设于该承载座 体上,该承载座体可沿一垂直于该第一铅直参考面 的方向带动该外壳单元相对于该底座体移动。 7.依据申请专利范围第6项所述之雷射测量仪,其中 ,该外壳单元是可转动地装设于该承载座体上。 8.依据申请专利范围第6项所述之雷射测量仪,其中 ,该等支脚组分别具有一水平支板、一将该水平支 板的内端螺接于该座底体的底面上的调整螺栓,及 一设置于该水平支板的外端上的支脚。 9.依据申请专利范围第6项所述之雷射测量仪,其中 ,该底座单元更具有一设置于该底座体的底面上且 朝下延伸的对位针。 图式简单说明: 图1是习知一种打墨线装置在一封闭空间内的使用 示意图; 图2是该装置靠墙的使用示意图; 图3是习知一种雷射三向直准度测定器量测墙角垂 直棱边的使用示意图; 图4是该测定器靠墙的使用示意图,说明该测定器 仅会在墙面上形成雷射光点; 图5是一类似图4的视图,说明该测定器仅会在墙面 上形成雷射光点; 图6是本新型雷射测量仪的一较佳实施例的立体示 意图; 图7是图6的俯视示意图; 图8是该较佳实施例在一封闭空间内的使用示意图 ; 图9是该较佳实施例紧靠于墙面上的使用示意图; 图10是该较佳实施例紧靠于墙面上的使用示意图; 及 图11是该较佳实施例对两垂直墙面的使用示意图 。
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