发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung oder weicher Röntgenstrahlung |
摘要 |
Verfahren zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung (EUV) oder weicher Röntgenstrahlung mit einer elektrisch betriebenen Entladung, insbesondere für die EUV-Lithographie oder für die Meßtechnik, bei dem ein Entladungsraum vorbestimmbaren Gasdrucks und erste und zweite Elektroden verwandt werden, die zumindest an einem vorbestimmten Bereich einen geringen Abstand voneinander aufweisen. DOLLAR A Um ein Verfahren der eingangs genannten Art anzugeben, das frei von den Nachteilen nach dem Stand der Technik ist und gleichzeitig ohne hohen Elektrodenverschleiß eine größere Strahlungsleistung ermöglicht, wird vorgeschlagen, daß ein Laserstrahl ein zugeführtes Medium im Bereich verdampft und der entstandene Dampf zu einem Plasma gezündet wird, das eine Quelle der zu erzeugenden Strahlung ist, und daß als Medium eine Metallschmelze auf die Außenoberfläche der Elektroden aufgetragen wird.
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申请公布号 |
DE10342239(A1) |
申请公布日期 |
2005.06.16 |
申请号 |
DE2003142239 |
申请日期 |
2003.09.11 |
申请人 |
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.;PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH |
发明人 |
JONKERS, JEROEN;VAUDREVANGE, DOMINIK MARCEL;NEFF, WILLI |
分类号 |
H05G2/00;(IPC1-7):H05G2/00 |
主分类号 |
H05G2/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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