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发明名称 BATH CLEANING WAFER AND WAFER POLLUTION LEVEL MEASUREMENT METHOD
摘要
申请公布号 KR20050056454(A) 申请公布日期 2005.06.16
申请号 KR20030089470 申请日期 2003.12.10
申请人 DONGBUANAM SEMICONDUCTOR INC. 发明人 YIM, TERESA;KWON, DAE HEOK
分类号 H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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