曝光用光罩及光罩图案之制造方法

摘要

本发明之目的系于使用0次光绕射光，进行其强度调变之二元光罩的设计、制造中，进行反映因光罩制造误差、曝光装置之光斑所造成之影响、以及光阻之显像特性等的设计。本发明系于配置有复数个图案位置PS而构成块状区域BA之曝光用光罩M中，作为构成此块状区域BA之复数个图案位置PS，以遮光图案与透过图案之间距相同，且比率逐渐变化之方式配置，图案位置PS系遮断自曝光装置出射之照明光之遮光图案与透过此照明光之透过图案以相同比率、相同间距构成者。