用于电化学机械制程之方法及设备

摘要

本发明实施例一般提供用于处理电化学机械研磨系统中之基材的方法及设备。在一实施例中，一用于研磨基材之槽包括配置于平台组件上表面的研磨垫。上研磨表面配置数个以间隔分开的导电元件，并且可利用配置于研磨垫和平台组件之间的电极以偏压基材。上表面和平台组件内的充液层之间形成通过平台组件的数个通道。在另一实施例中，系提供一具有大研磨槽和一残留物研磨槽的系统。该残留物研磨槽具有经偏压的导电研磨表面。在进一步的实施例中，系保护该导电元件以避免化学处理液的损伤。