发明名称 | 半导体激光器和楔形波导模斑转换器集成器件 | ||
摘要 | 一种半导体激光器和楔形波导模斑转换器集成器件,包括衬底区、导光区、限制区、电极区,其中:该限制区制作在衬底区上,该限制区包括,一n型掺杂磷化铟下限制层,一p型掺杂磷化铟上限制层,该p型掺杂磷化铟上限制层分为两层,一层制作在导光区之上,另一层制作在电极区之下,一p型未氧化的铟铝砷层和含铝氧化层,该p型未氧化的铟铝砷层和含铝氧化层相隔分为条状,制作在p型掺杂磷化铟上限制层之间,一光学介质膜制作在器件的两端;导光区制作在限制区之间;电极区制作在限制区之上和衬底区之下;该含铝氧化层,此含铝氧化层在半导体激光器部分对注入电流和光场进行限制,在楔形波导模斑转换器部分使其下面的导光区形成楔形波导。 | ||
申请公布号 | CN1622406A | 申请公布日期 | 2005.06.01 |
申请号 | CN200310119648.2 | 申请日期 | 2003.11.27 |
申请人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明人 | 刘志宏;王圩 |
分类号 | H01S5/026;H01S5/00 | 主分类号 | H01S5/026 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汤保平 |
主权项 | 1.一种半导体激光器和楔形波导模斑转换器集成器件,包括衬底区、导光区、限制区、电极区,其特征在于,其中:该限制区制作在衬底区上,该限制区包括,一n型掺杂磷化铟下限制层,一p型掺杂磷化铟上限制层,该p型掺杂磷化铟上限制层分为两层,一层制作在导光区之上,另一层制作在电极区之下,一p型未氧化的铟铝砷层和含铝氧化层,该p型未氧化的铟铝砷层和含铝氧化层相隔分为条状,制作在p型掺杂磷化铟上限制层之间,一光学介质膜制作在器件的两端;导光区制作在限制区之间;电极区制作在限制区之上和衬底区之下;该含铝氧化层,此含铝氧化层在半导体激光器部分对注入电流和光场进行限制,在楔形波导模斑转换器部分使其下面的导光区形成楔形波导。 | ||
地址 | 100083北京市海淀区清华东路甲35号 |