首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
DUAL DAMPING DEVICE FOR WASHER
摘要
申请公布号
KR20050050902(A)
申请公布日期
2005.06.01
申请号
KR20030084561
申请日期
2003.11.26
申请人
LG ELECTRONICS INC.
发明人
PARK, SEOK KYU
分类号
D06F37/22
主分类号
D06F37/22
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
控制一微机电系统装置内结构之机电行为
制造在一已预图案化的基板上之微机电装置
游戏程式、游戏装置及游戏方法
杂环衍生物及其用作治疗剂之用途
啶衍生物以及其医药组成物与应用
可固化之组成物,经固化之层,及叠层物
聚矽胺烷在涂覆金属带上的用途
光阻剂用之抗反射组合物
含矽系之光阻组成物及使用该组成物之图案形成方法
热传导性聚矽氧弹性体及热传导性聚矽氧弹性体组合物
对于多巴胺-D2受体和5-羟色胺再摄取部位具有亲和力的四氢啶-4-基 TETRAHYDROPYRIDIN-4-YL INDOLES WITH A COMBINATION OF AFFINITY FOR DOPAMINE-D2 RECEPTORS AND SEROTONIN REUPTAKE SITES
抑制HIV之5-杂环基嘧啶类HIV INHIBITING 5-HETEROCYCLYL PYRIMIDINES
互连体之接合方法、及利用该互连体之接合方法所制作之电子零件
功率放大器及其输出讯号误差的校正方法
适应性等化器步长估测方法及装置
照明系统
水性原子笔用黑色油墨组成物及水性油墨原子笔
用于滤色器之墨水组成物,使用该墨水组成物所制造之滤色器基材以及使用该墨水组成物来制造一滤色器基材的方法
无机涂料组成物,低折射率性涂膜及低折射率性涂膜之形成方法
新颖之以唑为基础的-羟基--甲基戊二醯辅A(HMG COA)还原抑制剂