| 发明名称 | 硬X射线全息干涉装置 | ||
| 摘要 | 一种硬X射线全息干涉装置，包括硬X射线同步辐射源，其特点是在该硬X射线出射方向轴对称地放置第一掠入射反射镜和第二掠入射反射镜，在该硬X射线方向，第一掠入射反射镜和第二掠入射反射镜之间放置一挡光板，经第一掠入射反射镜和第二掠入射反射镜反射的硬X射线方向放置一记录介质，各部件的位置关系如下：来自同步辐射源未被挡光板遮挡的硬X射线掠入射地照明第一掠入射反射镜和第二掠入射反射镜，从两反射镜出射以后，分成参考束和物束，物束经过待测样品以后和参考束重叠，在记录介质上发生干涉。利用本发明装置经过两次曝光，一次有待测样品，另一次无待测样品，获得硬X射线全息图，用计算机重构这张全息图可获得待测样品的位相信息。 | ||
| 申请公布号 | CN1609731A | 申请公布日期 | 2005.04.27 |
| 申请号 | CN200410084254.2 | 申请日期 | 2004.11.17 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 陈建文;高鸿奕;李儒新;徐至展 |
| 分类号 | G03H3/00;G01B9/02 | 主分类号 | G03H3/00 |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 1、一种硬X射线全息干涉装置，包括硬X射线同步辐射源(1)，其特征在于在该硬X射线出射方向轴对称地放置第一掠入射反射镜(2)和第二掠入射反射镜(3)，在该硬X射线方向，第一掠入射反射镜(2)和第二掠入射反射镜(3)之间放置一挡光板(4)，经第一掠入射反射镜(2)和第二掠入射反射镜(3)反射的硬X射线方向放置一记录介质(6)，各部件的位置关系如下：来自同步辐射源(1)未被挡光板(4)遮挡的硬X射线掠入射地照明第一掠入射反射镜(2)和第二掠入射反射镜(3)，从两反射镜出射以后，分成参考束和物束，物束经过待测样品(5)以后和参考束重叠，在记录介质(6)上发生干涉。 | ||
| 地址 | 201800上海市800－211邮政信箱 | ||