| 主权项 |
1.一种隐形拉链,包含:一对拉链带,各具有个别正对的纵向摺叠边缘;两排拉链元件,系安装在该正对纵向摺叠边缘上;一顶端挡止件,系安装在至少一排拉链元件的上端;一拉头,系可沿着该排拉链元件往复移动,该拉头具有一拉头本体及安装在该拉头本体上的一导柱,以便与该拉头本体共同界定出一导引通道,可供整排拉链元件通过,该导柱在其每一侧上形成有一滑动表面,且具有一突出的元件导引部,系从该滑动表面的上端延伸而出;及防止接触机构,用以防止元件导引部与该顶端挡止件的一角落部之间产生接触,其中当顶端挡止件进入该导引通道时,该顶端挡止件的角落部是正对着该元件导引部。2.如申请专利范围第1项之隐形拉链,其中该防止接触机构包含在该角落部上形成一沟纹。3.如申请专利范围第1项之隐形拉链,其中该防止接触机构包含在该元件导引部上形成一斜面。4.如申请专利范围第1项之隐形拉链,其中该防止接触机构包含在该角落部上形成一沟纹以及在该元件导引部上形成一斜面。5.如申请专利范围第1项之隐形拉链,其中该防止接触机构包含在该角落部上局部形成一沟纹。6.如申请专利范围第1项之隐形拉链,其中该拉链元件形成为一丝状拉链元件,该顶端挡止件是与该拉链元件排整体模制而成,且大致上具有与该拉链元件相等的剖面形状,该顶端挡止件系延伸横跨在几个该拉链元件的间隔上,该防止接触机构包含在该角落部上模制出沟纹。7.如申请专利范围第2项之隐形拉链,其中该沟纹是形成于该角落部上的一直线导角。8.如申请专利范围第2项之隐形拉链,其中该沟纹是形成于该角落部上的一拱形导角。9.如申请专利范围第2项之隐形拉链,其中该沟纹是形成于该角落部上的一嵌口。10.一种隐形拉链,包含:一对拉链带,各具有个别正对的纵向摺叠边缘;两排拉链元件,系安装在该正对纵向摺叠边缘上;一顶端挡止件,系安装在至少一排拉链元件的上端;及一拉头,系可沿着该排拉链元件往复移动,该拉头具有一拉头本体及安装在该拉头本体上的一导柱,以便与该拉头本体共同界定出一导引通道,可供整排拉链元件通过,该导柱在其每一侧上形成有一滑动表面,且具有一突出的元件导引部,系从该滑动表面的上端延伸而出;正对着该元件导引部的该顶端挡止件之一角落部其中具有一沟纹。11.如申请专利范围第10项之隐形拉链,其中该沟纹是形成于该角落部上的一直线导角。12.如申请专利范围第10项之隐形拉链,其中该沟纹是形成于该角落部上的一拱形导角。13.如申请专利范围第10项之隐形拉链,其中该沟纹是形成于该角落部上的一嵌口。14.如申请专利范围第10项之隐形拉链,其中该沟纹是局部形成于该角落部上。图式简单说明:图1是一局部前视图,显示本发明的隐形拉链;图2是一局部后视图,显示图1的隐形拉链;图3是一剖面图,显示本发明的第一实施例之防止接触机构;图4是沿着图3的线A-A所作之剖面图;图5是一剖面图,显示本发明的第二实施例之防止接触机构;图6是一剖面图,显示本发明的第三实施例之防止接触机构;图7是一剖面图,显示本发明的第四实施例之防止接触机构;图8是一拉头的侧视图,显示本发明的第五实施例之防止接触机构;图9是一剖面图,显示本发明的第六实施例之防止接触机构;图10是一立体图,显示本发明的第七实施例之防止接触机构;图11是类似于图10的一立体图,显示本发明的第八实施例之防止接触机构;图12是习知隐形拉链的拉头之立体图;图13是一顶端挡止件的剖面图,其中该顶端挡止件系装配在习知的隐形拉链之拉链带之一摺叠边缘上。 |
