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Empleo de compuestos de la **fórmula** en la que X significa un resto divalente del oxígeno, un resto carbonilo, imino en caso dado substituido de manera alifática o el resto -C(R9R10)-, Y significa grupo carbonilo o el resto -C(R9R10)-, R1 y R2 son restos iguales o diferentes, electrófilos, elegidos del grupo formado por ciano, alquil- o arilcarbonilo, alquiloxi- o ariloxicarbonilo, aminocarbonilo en caso dado substituido, alquil- o arilsufinilo, alquil- o arilsulfonilo y aminosulfonilo en caso dado substituido, R3 significa un átomo de hidrógeno, un grupo ciano, hidroxilo, carboxilo o aminocarbonilo o un resto alquilo con 1 a 20 átomos de carbono o un resto arilo con 5 a 20 átomos de carbono enlazados en caso dado a través de un puente de oxígeno, de un puente de aminocarbonilo o de un puente de oxicarbonilo, R4 significa un átomo de hidrógeno, un grupo hidroxilo, un grupo amino o un resto alquilo con 1 a 20 átomos de carbono o un resto arilo con 5 a 20 átomos de carbono enlazado en casodado a través de un puente de oxígeno y R5, R6, R9 y R10 significan, independientemente entre sí, hidrógeno o restos alquilo con 1 a 20 átomos de carbono, R7 y R8 significan, independientemente entre sí, hidrógeno o restos alquilo con 1 a 20 átomos de carbono o junto con el átomo de carbono ceteno significan un grupo carbonilo, como filtros fotoestables frente a los UV en preparaciones cosméticas para la protección de la piel humana y del cabello humano contra la irradiación solar, solos o junto con compuestos en sí conocidos para preparaciones cosméticas, absorbentes en el intervalo de los UV.
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