发明名称 介电质陶瓷及其制造方法及积层陶瓷电容器
摘要 提供一种介电质陶瓷,其适于构成在还原性气氛中烧结而得到的积层陶瓷电容器中之介电质陶瓷层的介电质陶瓷,即使将其薄层化介电常数的温度依存性也不随着薄层化程度而恶化,而且可靠性优良。本发明的介电质陶瓷,是以ABO3(A为Ba等,B为Ti等)作为主要成分并含有稀土元素的一种介电质陶瓷,就构成其70%以上的晶粒21而言,观察其断面时,5~70%的截面积系由稀土元素固溶区域22所占据,10~80%的断面外周,由稀土元素未固溶区域23所占据。
申请公布号 TWI230954 申请公布日期 2005.04.11
申请号 TW092133190 申请日期 2003.11.26
申请人 村田制作所股份有限公司 发明人 中村友幸;小中宏泰;佐野晴信
分类号 H01G4/12;H01G4/30 主分类号 H01G4/12
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种介电质陶瓷,系以ABO3(A为Ba或Ba及其一部分Ba 经置换成Ca和Sr之至少一种元素,B为Ti或Ti及其一部 分Ti经置换成Zr和Hf之至少一种元素)作为主要成分 并含有稀土元素之介电质陶瓷,其特征在于: 就构成该介电质陶瓷70%以上的晶粒,观察其断面时 ,5~70%的截面积由稀土元素固溶的稀土元素固溶区 域所占据,10~80%的断面外周由稀土元素未固溶的稀 土元素非固溶区域所占据。 2.如申请专利范围第1项之介电质陶瓷,其特征在于 :其中包含有晶粒和占据该晶粒之间的晶界,稀土 元素在该晶粒内部的平均浓度,为稀土元素在该晶 界中平均浓度的1/2以下。 3.如申请专利范围第1项之介电质陶瓷,其特征在于 :其中又含有Mn、Ni、Fe、Cu、Mg、Al、Cr及V之至少一 种元素。 4.如申请专利范围第1项之介电质陶瓷,其特征在于 其中有含有包含Si、B(硼)及Li之至少一种元素的烧 结助剂。 5.一种介电质陶瓷之制造方法,系如申请专利范围 第1至4项中任一项之介电陶瓷的制造方法,其中包 含有: 藉由合成ABO3(A为Ba、或Ba及其一部分Ba经置换成Ca 及Sr之至少一种,B为Ti、或Ti及其一部分Ti经置换成 Zr及Hf之至少一种元素),制造多个初级粒子呈凝聚 状态的ABO3凝聚体制造程序, 准备稀土元素化合物之程序, 藉由将该ABO3凝聚体与该稀土元素化合物混合和煆 烧,使该稀土元素在该ABO3凝聚体的表面部分扩散 固溶之程序,及 对含有在该表面部分固溶有稀土元素的ABO3凝聚体 或其粉碎物的介电质陶瓷粉末进行烧结之程序。 6.如申请专利范围第5项之介电质陶瓷之制造方法, 其中该ABO3凝聚体制造程序,又包含粉碎该ABO3凝聚 体,使其中大部分变成由四个以上和20个以下之初 级粒子所形成的凝聚体之ABO3凝聚体粉碎程序。 7.如申请专利范围第5项之介电质陶瓷之制造方法, 其中又包含在该烧结程序之前,将应当烧结之稀土 元素在该表面部分固溶的ABO3凝聚体粉碎至初级粒 子之粉碎程序。 8.如申请专利范围第7项之介电质陶瓷之制造方法, 其中该初级粒子之平均粒径为0.05~0.7微米。 9.一种积层陶瓷电容器,其特征在于其包括 包含多个积层之介电质陶瓷层及沿着该介电质陶 瓷层之间特定介面形成的内部电极之积层体,及 在该积层体外表面上形成的外部电极,以便可以与 该内部电极的特定部分进行电连接, 其中该介电质陶瓷层系由如申请专利范围第1项之 介电质陶瓷所构成。 图式简单说明: 图1系示意表示本发明一种实施方式的积层陶瓷电 容器1的剖视图。 图2系示意表示构成本发明介电质陶瓷的一个晶粒 21的剖视图。 图3(1)至3(4)为依次图解说明本发明介电质陶瓷的 制造方法所包括的典型程序的示意图。
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