发明名称 化学电镀方法
摘要 一种化学电镀方法,适用于电镀铜薄膜于一晶圆上,且避免电镀铜薄膜于晶圆的周围部分。此化学电镀铜方法以铜电极连接电源的正极,以晶圆连接环状点接触电极。执行电镀时,环状点接触电极和晶圆的周围部份间接触面的压力,需小于一预定临界值。环状点接触电极和晶圆的非周围间部份间的接触面的压力,需大于此预定临界值。
申请公布号 TW200512320 申请公布日期 2005.04.01
申请号 TW092125826 申请日期 2003.09.18
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 曹荣志;刘继文;陈科维;林士琦;庄瑞萍
分类号 C25D7/12;H01L21/3205 主分类号 C25D7/12
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号