| 发明名称 | 采用甲酸铜配合物的铜沉积方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及新的甲酸铜配合物和采用这些新铜配合物将金属铜向基底上或多孔固体材料中或其上的沉积。 | ||
| 申请公布号 | CN1602314A | 申请公布日期 | 2005.03.30 |
| 申请号 | CN02824648.9 | 申请日期 | 2002.12.12 |
| 申请人 | 纳幕尔杜邦公司 | 发明人 | J·S·汤普森 |
| 分类号 | C07F15/00;C23C18/00;B05D7/24;B05D1/18 | 主分类号 | C07F15/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭煜;谭明胜 |
| 主权项 | 1.组合物，其包含铜、与铜配位的两个甲酸根离子和两个经由氮与铜配位的芳族氮杂环配体，其中芳族氮杂环配体选自C10-C20烷基-取代的吡啶、C9-C20烷基-取代的吡唑、C9-C20烷基-取代的咪唑和C9-C20 烷基-取代的三唑，其中吡唑、咪唑和三唑配体的N1位是烷基取代的。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州威尔明顿 | ||