Gasversorgungsanordnung, insbesondere für einen CVD-Prozessreaktor zum Aufwachsen einer Epitaxieschicht

摘要

Erläutert wird u. a. eine Gasversorgungsanordnung (10) für einen Prozessreaktor (270). Die Gasversorgungsanordnung (10) enthält mindestens eine Umschalteinheit (420), eine Prozessgasleitung (470) und eine Hilfsleitung (460). Der Prozessreaktor (270) enthält mindestens einen Gaseinlassanschluss (404). Eine Reaktorleitung (450) liegt zwischen der Umschalteinheit (420) und dem Gaseinlassanschluss (404). Die Reaktorleitung (450) ist kürzer als ein Meter, wodurch hervorragende Betriebseigenschaften der Gasversorgungsanordnung (10) entstehen.