发明名称 制造及清洁具有纹理表面之腔室组件的方法
摘要 一种清洁一基材制程腔室组件的方法,该方法包含:形成一具有纹理表面之组件、以及以一加压喷射流体喷扫该组件表面。该喷射流体被加压至足以令所有微粒自该纹理表面实质脱附之高压。本发明方法可被应用以令微粒自该等以电磁能量束扫瞄及喷粒形成之纹理表面脱附。本发明方法亦可被应用以自该涂层组件之纹理表面移除附着之涂层微粒。
申请公布号 TW200510082 申请公布日期 2005.03.16
申请号 TW093113180 申请日期 2004.05.11
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 韦斯特;史威特兹;瓦堤亚
分类号 B08B3/02;H01L21/302 主分类号 B08B3/02
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国