发明名称 提升导电层的密接性的导电性片及包含该导电性片的制品
摘要 本发明之导电性片(1)其特征为:在具有1个以上之引孔(3)的绝缘性基体(2)中,该引孔(3)是贯穿该绝缘性基体(2)之细孔,对于包含该引孔(3)之壁面的绝缘性基体(2)的全面,藉由溅镀法或蒸镀法以形成基底导电层(5),而且,对于该基底导电层(5)的表面之全面或部份,形成上层导电层(6),同时,该引孔(3)藉由该上层导电层(6)所填充。
申请公布号 TW200511457 申请公布日期 2005.03.16
申请号 TW093124385 申请日期 2004.08.13
申请人 FCM股份有限公司 发明人 三浦茂纪
分类号 H01L21/60;H05K3/42 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本