| 发明名称 |
Ion implantation apparatus equipped with plasma shower and ion implantation method |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
GB2389455(B) |
申请公布日期 |
2005.03.16 |
| 申请号 |
GB20030004678 |
申请日期 |
2003.02.28 |
| 申请人 |
* SUMITOMO EATON NOVA CORPORATION |
发明人 |
HIROSHI * KAWAGUCHI |
| 分类号 |
H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/317;H01J37/02 |
主分类号 |
H01J37/317 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
