发明名称 |
Fremgangsmate for a forhindre skifte av linjeringsmerker under rask termisk prosessering |
摘要 |
<p>Fremgangsmåte for å forhindre termisk sfress og forflytting av linjeringsmerker under halvlederprosessering inkludert å skaffe til veie en halvlederskive (10) som har en første utvalgt del (12) for fabrikasjon av integrerte kretser og en andre ikke-fabrikasjonsdel (14) inkludert linjeringsmerker (16), å inttodusere dopanter (56) i nevnte første og andre deler når dopant (56) er nødvendig å inttodusere i nevnte første del (12) for derved å øke sfrålingsenergiab- sorpsjonsnivået og å begrense sfrålingsenergigjennomsiktigheten i begge deler (12, 14) slik at de termiske emisjoner detektert ved delene ikke resulterer i noen signifikant temperaturforskjell mellom delene under oppvarming. Derfor blir termisk sfress og forflytting av linjeringsmerker (16) forhindret.</p> |
申请公布号 |
NO20050924(A) |
申请公布日期 |
2005.02.21 |
申请号 |
NO20050000924 |
申请日期 |
2005.02.21 |
申请人 |
ATMEL CORP |
发明人 |
WHITEMAN MICHAEL D;LOJEK BOHUMIL |
分类号 |
H01L27/088;H01L21/265;H01L21/324;H01L21/8234;H01L23/544;(IPC1-7):H01L21/76 |
主分类号 |
H01L27/088 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|