基板抛光装置

摘要

一种基板抛光装置(10)，抛光基板(20)至平整镜面。该基板抛光装置(10)具有：压抵基板(20)之抛光盘(12)；发射光线及接收光线之装置(24)，系从该抛光盘(12)发射量测光线至该基板(20)，并且从该基板(20)接收所反射之光线，以测量在该基板(20)上之薄膜；流体供应通道(42)，用于供应量测流体至设置在该抛光盘(12)之发射光线及接收光线位置之流体室，其中该量测光线以及该所反射之光线通过该流体供应通道(42)；以及流体供应控制装置，用于控制供应至该流体室之量测流体。