使用空间光调制器的改进方法和装置

摘要

本发明涉及一种作为所施加的元件控制信号的函数的、用于校准空间光调制器中的元件的方法。多个元件被同时校准。一束电磁辐射被投射到SLM的至少一部分。在用于测量电磁辐射的强度的器件上形成所述SLM的所述部分的图像。通过将包括SLM的所述部分中的至少两个元件的子矩阵驱动成一串所施加的元件控制信号，或通过寻找在用于测量电磁辐射的强度的器件上给出相同的预定强度值的每个元件的控制信号并对N个不同的预定强度值执行上述步骤，将强度数据用作所施加的元件控制信号的函数，来产生元件校准数据。本发明还涉及一种具有这样的校准方法的、用于在工件上形成图案的装置。本发明的其它方面将详细反映在说明书、附图和权利要求中。

主权项

1.一种作为控制信号的函数的、用于校准空间光调制器(SLM)中的元件的方法，包括步骤：在SLM的至少一部分中的元件上投射电磁辐射；通过傅里叶平面上的空间滤波器将至少部分所述电磁辐射中继到测量电磁辐射的剂量的检测器配置上；通过第一串模拟控制信号改变不相邻的至少两个元件，同时测量所产生的剂量；以及从所测量的剂量中计算元件响应曲线。