MICROSTRUCTURED CHEMICAL SENSOR

摘要

Um bei einem Sensor mit einer auf einem Substrat (1) angeordneten ersten Metallisierungsebene, einer darauf aufgebrachten, durch Kontaktlöcher (7) strukturierten Passivierungsschicht (6) und mit einer darauf und in den Kontaktlöchern (7) in Dickschichttechnik erzeugten sensitiven Keramikschicht (9) die Haftung der Keramikschicht (9) zu verbessern, wird vorgeschlagen, dass eine Haftvermittlerschicht (8) vorgesehen ist, die als zweite Metallisierungsebene ausgebildet ist und die zwischen der Passivierungsschicht (6) und der Keramikschicht (9) angeordnet ist.