发明名称 |
相变型光记录介质及其制造方法和记录方法 |
摘要 |
一种相变型光记录介质,该相变型光记录介质具有反射率关系Rc<Ra,且即使不进行初始化处理,也能从第一次记录开始就具有高的记录特性。该光盘是通过在衬底(1)上淀积多重反射层(2)、第一介电层(3)、记录层(4)、第二介电层(5)、反射层(6)和UV硬化树脂层(7)而形成的。在形成记录层(4)时,衬底温度设置为既能使记录层处于非晶态,又不高于记录层的结晶转变温度。由此,记录层(4)在稳定非晶态条件下形成。 |
申请公布号 |
CN1188847C |
申请公布日期 |
2005.02.09 |
申请号 |
CN98802922.7 |
申请日期 |
1998.02.24 |
申请人 |
旭化成株式会社 |
发明人 |
小川周一郎;森本勋;西村和浩;寺田正人 |
分类号 |
G11B7/24;G11B7/26;G11B7/00 |
主分类号 |
G11B7/24 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王以平 |
主权项 |
1.一种相变型光记录介质,该记录介质至少包括衬底和在其一面上形成的、根据照射光束的强度进行晶态和非晶态相变的记录层,该记录层在晶态时的反射率比在非晶态时的反射率小,其中:所述记录层在成膜时整个表面都成为稳定非晶态,且在衬底上依次包括多重反射层、第一介电层、记录层、第二介电层和反射层。 |
地址 |
日本大阪 |