浸入式光刻系统及使用微通道喷嘴的方法

摘要

一种液体浸入式光刻系统包含一曝光系统，其以电磁辐射光一基底并包含一投影光学系统，其将电磁辐射对焦于该基底上。一液体供给系统提供于投影光学系统与基底之间的液体流动。多个选用微喷嘴系被安排在该投影光学系统的一侧的外围上，以提供在基底曝光区域中的液体流动的实质均匀的速度分布。

主权项

1.一种液体浸入式光刻系统，包含：曝光系统，其以电磁辐射曝光一基底并包含一投影光学系统，该投影光学系统将电磁辐射对焦在基底上；液体供给系统，其在投影光学系统与基底之间提供液体流；以及多个微喷嘴，安排在该投影光学系统的外围旁，以在基底及投影光学系统之间提供液体流的基本均匀的速度分布。