发明名称 开放式位线DRAM结构的噪声抑制
摘要 一种开放式位线的动态随机存取存储器(DRAM)结构,它使用了多层位线配置,以减小器件内开关位线之间的耦合。在一种方式中,一排DRAM单元中的每个后续单元都连接到一个不同于这排单元内前一个单元的金属化层上的位线段上。为了进一步减小噪声耦合,还在公用金属化层上的相邻位线之间设置屏蔽元件。此外,还提供了一种功能,利用虚拟信号注入技术来减小DRAM器件中的字线—位线耦合影响。在这种方式中,能够在DRAM器件中一个或多个读出放大器出现饱和情况之前,减小或消除可能会使所述读出放大器出现饱和的共模噪声。在一种方式中,为了实现这种信号注入而设置了虚拟单元和基准单元。本发明的主要原理特别适用于嵌入式DRAM结构,在这种结构中,各个单元内的低电荷存储容量降低了可实现的信号电压。
申请公布号 CN1572002A 申请公布日期 2005.01.26
申请号 CN01817528.7 申请日期 2001.10.03
申请人 英特尔公司 发明人 施连·卢;迪内希·索马谢卡尔;维韦克·德
分类号 G11C11/4094;G11C7/18;H01L27/108;G11C7/14;G11C11/4097;G11C11/4099;G11C7/12 主分类号 G11C11/4094
代理机构 北京东方亿思专利代理有限责任公司 代理人 陆锦华
主权项 1.一种动态随机存取存储(DRAM)器件,包括:一个半导体衬底;多个存储器单元,位于所述半导体衬底上,用来将数字数据存储在所述器件内;以及多条位线,连接到所述多个存储器单元,用来给所述存储器单元输送数据或从所述存储器单元读取数据,所述多条位线在所述的半导体衬底上面占据两个或更多个不同的金属化层。
地址 美国加利福尼亚州