发明名称 电子束记录装置及电子束记录方法
摘要 提供一种用电子束记录装置曝光穴时,形成穴的前端和后端的形状一致、均匀形状的穴的电子束记录装置。电子束记录装置具有:发射电子束的电子射线源;根据规定的信息信号生成电压的电压控制部;根据电压控制部生成的上述电压使上述电子束偏转的控制电极;遮蔽上述电子束的遮蔽板;载置上述抗蚀剂原盘并使该抗蚀剂原盘旋转的回转台。电子束记录装置经遮蔽板的通过位置使上述电子束通过,在遮蔽板的遮蔽位置使上述电子束遮蔽,在上述抗蚀剂原盘上记录所希望的图案。电压控制部控制外加到控制电极上的电压,使电子束从第1遮蔽位置移动到上述通过位置的第1速度和从通过位置移动到第2遮蔽位置的第2速度几乎相等。
申请公布号 CN1186768C 申请公布日期 2005.01.26
申请号 CN02124745.5 申请日期 2002.06.24
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 佃雅彦;林一英;植野文章
分类号 G11B7/00;G11B7/26;G11B9/10 主分类号 G11B7/00
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1.一种电子束记录装置,是具有:发射电子束的电子射线源;根据规定的信息信号生成电压的电压控制部;根据电压控制部生成的上述电压使上述电子束偏转的控制电极;遮蔽上述电子束的遮蔽板;载置抗蚀剂原盘并使该抗蚀剂原盘旋转的回转台,使上述电子束通过经遮蔽板的通过位置,在遮蔽板的遮蔽位置使上述电子束遮蔽,在上述抗蚀剂原盘上记录所希望的图案的电子束记录装置;其特征在于:电压控制部控制外加到上述控制电极上的上述电压,使上述电子束从第1遮蔽位置向上述通过位置移动的第1速度和从上述通过位置向第2遮蔽位置移动的第2速度相等。
地址 日本大阪府