| 发明名称 | 光信息介质及其制造、检查方法 | ||
| 摘要 | 在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层照射记录或重放用的激光的光信息介质中，减小激光光斑直径并且提高在线速度大时的记录/重放特性。作为一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，所述透光层由树脂构成。拉伸破坏强度为5～40MPa，拉伸破坏伸长率为15～100％，拉伸弹性系数为40～1000MPa。 | ||
| 申请公布号 | CN1185644C | 申请公布日期 | 2005.01.19 |
| 申请号 | CN01124331.7 | 申请日期 | 2001.06.26 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 小卷壮;平田秀树;加藤达也 |
| 分类号 | G11B7/24;G11B7/26 | 主分类号 | G11B7/24 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈昕 |
| 主权项 | 1.一种在支持基片上具有信息记录层、在该信息记录层上具有透光层、通过该透光层入射记录或重放用的激光来使用的光信息介质，所述透光层由树脂构成，拉伸破坏强度为5～40Mpa，拉伸破坏伸长率为15～100％，拉伸弹性系数为40～1000Mpa，厚度超过50μm、200μm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||