| 主权项 |
1.一种旋转型矽晶圆洗净装置,属于机壳本体内具备矽晶圆的支持,旋转驱动装置,藉由纯水来洗净药品洗净后的矽晶圆的旋转型矽晶圆洗净装置,其特征为:设置附设于机壳本体,供给含有0.05vol%以上的氢气体的氢气体与惰性气体的混合气体的气体供给面板,及一端连结至上述气体供给面板的气体混合器的混合气体供给管,及加热上述混合气体供给管内的混合气体的混合气体加热装置,及在与藉由上述混合气体加热装置所加热的高温混合气体的接触气体部分具备形成氢基的镀白金保护膜的氢基生成装置所构成的矽晶圆乾燥装置;藉由将含有利用上述氢基生成装置所生成的氢基的混合气体喷出至洗净后的施以旋转的矽晶圆上,进行矽晶圆外表面的乾燥与氢气终端处理。2.如申请专利范围第1项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将混合气体供给管朝上下方向移动自如且朝圆周方向旋转自如地支持于机壳本体的纵连结管及于该纵连结管被连结于另一端而被支持于水平方向的横连结管所形成之同时,藉由昇降旋转装置朝上、下方向可移动且朝正、逆方向可转动上述纵连结管。3.如申请专利范围第1项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将混合气体加热装置作为设于混合气体供给管的一部分的吸热器;藉由该混合气体加热装置将混合气体加热至150℃以上的温度。4.如申请专利范围第1项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将氢基生成装置,作成具备固定于混合气体供给管的前端镀过滤器的氢基气体生成散布器。5.如申请专利范围第1项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将氢气的混合比作成0.05vol%至5.0vol%。6.如申请专利范围第2项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将纵连结管,由连结管本体及插装于其内部的吸热器所构成,具备藉由吸热器来加热流通上述连结管本体的内壁面与吸热器的外壁面之间的混合气体的具有加热器的连结管的纵连结管。7.如申请专利范围第2项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将具有加热器的横连结管,作成由不锈钢制外管,及介设间隔件而插装的混合气体流通于其内方的内管,及卷绕于内管的外周面的微吸热器,及将卷绕微吸热器的内管外周面予以围绕的铝箔制盖所构成的具有加热器的横连结管。8.如申请专利范围第2项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将纵连结管的昇降,旋转驱动装置,藉由纵连结管的下降,在镀白金过滤器的下面与相对向于此的矽晶圆的上面的间隔成为0.5mm至3mm的位置处保持固定氢基生成,散布器。9.如申请专利范围第3项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将供给于氢生成,散布器的混合气体的温度作为150℃至300℃。10.如申请专利范围第4项所述的旋转型矽晶圆洗净装置,其中,将氢基生成,散布器作成由:在上壁中央具有混合气体导入口的倒盘型上部本体,及水平地设在上部本体下面侧,且外周部穿设复数气体透过孔的反射板,及焊接于上部本体的下端面的短圆筒型过滤器凸缘,及被固定于过滤器凸缘的下面端,且在不锈钢烧结材所构成的多孔性圆盘形成镀白金层的镀白金过滤器所构的氢基生成,散布器。图式简单说明:第1图是表示本发明的实施形态的晶圆洗净装置的前视图。第2图是表示第1图的右侧视图。第3图是表示第2图的A-A剖视概要图。第4图是表示第2图的B-B剖视概要图。第5图是表示气体供给面板的构成的系统图。第6图是表示具有加热器的纵连结管的剖视概要图。第7图是表示具有加热器的横连结管的剖视概要图。第8图是表示藉由白金触媒被活性化的氢气与氧气的反应的温度与反应率的关系的特性曲线。第9图是表示藉由本发明刚施以氢终端处理后的矽晶圆的Si-H的红外线吸收特性曲线者。 |
