发明名称 高线性度拟晶性高电子迁移率场效电晶体
摘要 本发明揭示一种拟晶性高电子迁移率电晶体(pHEMT’s),具有一n^+/p^+/n异质结构驼峰式闸极及一单原子层掺杂结构。以n^+–GaAs/p^+–InGaP/n–InGaP驼峰式闸极之单原子层掺杂InGaP/InGaAs/GaAs pHEMT’s为例,由于p^+–InGAP闸极至通道为p–n空乏及InGaP/InGaAs异质接面具有大的导电带不连续值(ΔEc),闸极导通电压可高于1.7V。且因所加之闸极电压部分落于驼峰式闸极及载子调变之影响,总空乏层厚度变化相当小,可同时获得高汲极电流及高线性转导特性。本发明元件适于线性、大讯号放大器及高频电路应用。
申请公布号 TW200501421 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW092117346 申请日期 2003.06.25
申请人 国立高雄师范大学 发明人 蔡荣辉
分类号 H01L29/772 主分类号 H01L29/772
代理机构 代理人 陈展俊
主权项
地址 高雄市苓雅区和平一路一一六号