发明名称 | 一种LPCVD反应器之抽气系统AIR-EXTRACTING SYSTEM OF AN LPCVD REACTOR | ||
摘要 | 本发明系提供一种低压化学气相沉积(LPCVD)反应器(reactor)之抽气系统。该抽气系统包含有一环状(ring)壁与一抽气装置。该环状壁围绕于一晶座之周围,该环状壁上设有复数个抽气孔,且该复数个抽气孔至少可区分为一第一群组以及一第二群组,该第一群组之抽气孔与该第二群组之抽气孔分别具有不同之直径与间距。该抽气装置,连接于该反应器内面对于该第二群组之抽气孔之位置,用来抽离制程气体。其中该不同群组之抽气孔系用来控制该制程气体之流动分布,以增加该LPCVD制程之沉积均匀度。 | ||
申请公布号 | TW200428489 | 申请公布日期 | 2004.12.16 |
申请号 | TW092115610 | 申请日期 | 2003.06.09 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 陈立业;吴俊元;程立伟 |
分类号 | H01L21/20 | 主分类号 | H01L21/20 |
代理机构 | 代理人 | 许锺迪 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路三号 |