| 摘要 |
〔课题〕：本发明为提供一种缩短对显像反应之时间与可均匀显像之显像装置。〔解决手段〕：检测装置2，系由将上面作为水平面之支持部21，与配置于此支持部21之旋转22所组成，此等系设置于防止飞散用之罩子23内，于前述转子22上面，系将被处理基板W形成真空吸着沟槽，同时，形成于支持部21上面之沟槽内，配置完成前述循环路径9之管子，更于支持部21之最上面，于靠近内径位置，将渗入被处理基板W之背面之显现液配置清洗之清洗喷嘴24。另外，前述喷嘴装置3，系于往来水平方向之手臂31，藉由支柱32安装着喷洒喷嘴33。于此喷洒喷嘴33插入显现液供给管及空气供给管。从显像液供给管之条温显像液，系为雾状，从喷洒喷嘴33下端而喷出。 |
