发明名称 降低共轭高分子漏电流之方法及其共轭高分子组合物
摘要 本发明提供一种降低共轭高分子中残留金属离子造成光电元件漏电流之方法,系将螯合剂添加于共轭高分子材料内,利用螯合剂具有螯合金属离子的能力,达到降低金属离子在电场下的导电性及移动性,减低漏电流的产生,增加元件高稳定性。此外,螯合剂与金属离子螯合后,降低金属离子活性,亦增加材料与元件的安定性。本发明亦提供一种共轭高分子组合物。
申请公布号 TW200427759 申请公布日期 2004.12.16
申请号 TW092115804 申请日期 2003.06.11
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 陈国裕;段启圣;邓宛容;张信贞
分类号 C08L101/12 主分类号 C08L101/12
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路四段一九五号