发明名称 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR DOTIERUNG VON ATOMSCHICHTEN
摘要
申请公布号 DE60107111(D1) 申请公布日期 2004.12.16
申请号 DE20016007111 申请日期 2001.08.22
申请人 MICRON TECHNOLOGY, INC. 发明人 SANDHU, GURTEJ;DOAN, T.
分类号 H01L21/22;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/225;H01L21/265;H01L21/677;(IPC1-7):C30B31/00 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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