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发明名称
VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR DOTIERUNG VON ATOMSCHICHTEN
摘要
申请公布号
DE60107111(D1)
申请公布日期
2004.12.16
申请号
DE20016007111
申请日期
2001.08.22
申请人
MICRON TECHNOLOGY, INC.
发明人
SANDHU, GURTEJ;DOAN, T.
分类号
H01L21/22;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/225;H01L21/265;H01L21/677;(IPC1-7):C30B31/00
主分类号
H01L21/22
代理机构
代理人
主权项
地址
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