旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备

摘要

本实用新型涉及一种旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备，具有电解质镀层镀膜室和导电镀层镀膜室，电解质镀层镀膜室的一侧设置有预抽室，电解质镀层镀膜室内设置有镀电解质镀层的磁控靶，导电镀层镀膜室内设置有镀导电镀层的磁控靶，在电解质镀层镀膜室与预抽室间设置有缓冲室，在预抽室与外界、预抽室与缓冲室间、缓冲室与电解质镀层镀膜室间分别设置有隔离密封缝阀，本实用新型的旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备具有生产效率高，均匀性好，可控性强等特点，能镀制低辐射玻璃、阳光控制膜玻璃、单向透视玻璃、高反射镜面玻璃等产品，为目前磁控溅射镀膜玻璃生产线的升级换代产品。

主权项

1.一种旋转磁靶式膜玻璃磁控溅射设备，具有电解质镀层镀膜室(3)和导电镀层镀膜室(4)，电解质镀层镀膜室(3)的一侧设置有预抽室(1)，另一侧与导电镀层镀膜室(4)连接，电解质镀层镀膜室(3)内设置有镀电解质镀层的磁控靶(5)，导电镀层镀膜室(4)内设置有镀导电镀层的磁控靶(6)，其特征是：镀电解质镀层的磁控靶(5)是平面式磁控靶(5)，并与中频交流专用电源(8)连接，镀导电镀层的磁控靶(6)是圆柱形旋转式磁控靶(6)，并与恒流式直流专用电源(9)连接。