| 摘要 |
processo de obtenção d eum substrato revestido sobre pelo menos uma parte de sua superfície de pelo menos uma camada de óxido de um metal e substrato. a invenção tem por objeto um processo de obtenção de um substrato revestido sobre pelo menos uma parte de sua superfície de pelo menos uma camada de óxido de um metal m cuja espessura física é inferior ou igual a 30 nm, a dita camada de óxido não estando compreendida em um empilhamento de camadas compreendendo pelo menos uma camada d eprata, o dito processo compreendendo as etapas seguintes: deposita-se por pulverização católica pelo menos uma camada intermediária de um material escolhido dentre o metal m, um nitreto do emtal m, um carboneto do emtal m, ou um óxido sub-estequiométrico em oxigênio do metal m, a dita camada intermediária não sendo depositada acima ou abaixo de uma camada â base de óxido de titâneo, a espessura física da dita camada intermediária sendo inferior ou igual a 30 nmm, oxida-se pelo menos uma parte da superfície da dita camada intermediária com a ajuda de um tratamento térmico, durante o qual a dita camada intermediária está em contato direto com uma atmosfera oxidante, notadamente com o ar, a temperatura do dito substrato durante o dito tratamento térmico não ultrapassado 150ºc. |
