单片三腔式红外加热超高真空化学气相淀积外延系统

摘要

单片三腔式红外加热超高真空化学气相淀积外延系统属于超大规模集成电路薄膜外延生长和超晶格薄膜材料生长技术领域，除了高真空机组、气路装置、尾气处理装置、测温控温装置、加热电源、计算机控制装置以外，其特征在于，它含有：反应腔；用于取放样片的预装片腔，该腔的前端经一个高真空阀门与装片腔隔离，在该腔后端有一个磁传动样片片架，以便在该高真空阀门打开时把样片片架上所预装的样片从预装片腔传送到装片腔，该预装片腔上端是一个具有高真空密封圈密封的翻盖门；装片腔：它含有气缸驱动的样片升降台，取放样片机械手以及与之相连的磁传动杆。本发明具有样片外延薄膜均匀性好、质量高和外延生产效率高的优点。

主权项

1.单片三腔式红外加热超高真空化学气相淀积外延系统，主要含有反应腔、装片腔以及磁传动杆，其特征在于，它含有：装片腔，它主要包含：在装片腔侧面沿横向进出装片腔和石英反应腔内腔的机械手，所述的机械手是安装在磁传动杆上的；在装片腔底面沿纵向运动的样片升降台，所述的样片升降台是安装在气缸上的；预装片腔，它通过位于预装片腔侧面的高真空阀门和装片腔相连接，它主要含有：安装在磁传动杆上的U形样片片架，它是从预装片腔侧面进出装片腔的；带高真空密封圈的翻盖门，它安装在预装片腔的顶面；独立的真空机组，它安装在预装片腔的底部。