发明名称 微影成像用洗净液及基板之处理方法
摘要 本发明系提供一种为剥离、溶解膜厚10~150μm光阻图案之洗净液者,含有(a)0.5~15质量%季铵氢氧化物(四丙铵氢氧化物、四丁铵氢氧化物等)、(b)65~97质量%水溶性有机溶媒(二甲亚,或其与N–甲基–2–咯烷酮、环丁码等之混合溶媒等)、以及(c)0.5~30质量%水之微影成像用洗净液、及基板之处理方法。
申请公布号 TW200424808 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW092128172 申请日期 2003.10.09
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 横井滋;屋和正;斋藤宏二
分类号 G03F7/42 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本