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发明名称
微影成像用洗净液及基板之处理方法
摘要
本发明系提供一种为剥离、溶解膜厚10~150μm光阻图案之洗净液者,含有(a)0.5~15质量%季铵氢氧化物(四丙铵氢氧化物、四丁铵氢氧化物等)、(b)65~97质量%水溶性有机溶媒(二甲亚,或其与N–甲基–2–咯烷酮、环丁码等之混合溶媒等)、以及(c)0.5~30质量%水之微影成像用洗净液、及基板之处理方法。
申请公布号
TW200424808
申请公布日期
2004.11.16
申请号
TW092128172
申请日期
2003.10.09
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
横井滋;屋和正;斋藤宏二
分类号
G03F7/42
主分类号
G03F7/42
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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