灰阶罩幕之缺陷修正方法

摘要

本发明之目的在于，提供一种较为容易且修正精度高的灰阶部之修正方法。作为解决问题之手段，本发明之灰阶罩幕之缺陷修正方法，系为修正具备遮光部1、透光部2及形成使用灰阶罩幕之曝光机的析像界限以下的遮光图案(3a、3b)的区域，且以减低透过该区域的光的透过量而选择性改变光阻的膜厚为目的之灰阶部3的灰阶罩幕之灰阶部3的缺陷，其特征为：在上述灰阶部产生黑缺陷(未图示)的情况，以将上述黑缺陷形成为上述灰阶部具有与正常灰阶部相同的灰阶效果的膜厚的方式，藉由蚀刻减低膜厚。