发明名称 |
Anordnung zur Inspektion von Objekten, insbesondere von Masken in der Mikrolithographie |
摘要 |
Anordnung zur Inspektion von Objekten, insbesondere von Masken in der Mikrolithographie, DOLLAR A die sich in einer Vakuumkammer befinden, wobei ein Wandler zur Umwandlung der vom Objekt kommenden Beleuchtungsstrahlung in eine Strahlung größerer Wellenlänge sowie ein Sensor zur Bildaufzeichnung vorgesehen ist, DOLLAR A wobei sich der Sensor außerhalb der Vakuumkammer befindet und als optische Schnittstelle von der Vakuumkammer zum Sensor der Wandler oder zumindest ein Teil eines Abbildungsobjektivs als Fenster in der Vakuumkammer angeordnet ist.
|
申请公布号 |
DE10318560(A1) |
申请公布日期 |
2004.11.11 |
申请号 |
DE20031018560 |
申请日期 |
2003.04.24 |
申请人 |
CARL ZEISS SMS GMBH |
发明人 |
DOBSCHAL, HANS-JUERGEN;HARNISCH, WOLFGANG;SCHERUEBL, THOMAS;ROSENKRANZ, NORBERT;SEMMLER, RALPH |
分类号 |
G01N21/956;G03F1/00;(IPC1-7):G01M11/00;G02B13/14 |
主分类号 |
G01N21/956 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|