发明名称 |
Grabenkondensator mit vergrabener Kontaktbrücke |
摘要 |
Ein Grabenkondensator mit verbesserter Kontaktbrücke wird offenbart. Die Kontaktbrücke ist über der oberen Oberfläche des Kondensators angeordnet. Die obere Oberfläche des Grabenkondensators, die durch die oberen Oberflächen des Kragens und der Speicherplatte gebildet wird, ist planar. Indem die Kontaktbrücke auf einer planaren Oberfläche angeordnet wird, wird die in herkömmlichen Prozessen zum Ausbilden von Kontaktbrücken vorliegende Ausnehmung vermieden. Dies führt zu verbesserter Zuverlässigkeit der Kontaktbrücken und verbesserten Eigenschaften des Bauelements.
|
申请公布号 |
DE102004007242(A1) |
申请公布日期 |
2004.10.28 |
申请号 |
DE200410007242 |
申请日期 |
2004.02.13 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
BEINTNER, JOCHEN;TEWS, HELMUT HORST;KUDELKA, STEPHAN P. |
分类号 |
H01L21/20;H01L21/8242;H01L27/108;H01L33/00;(IPC1-7):H01L27/108;H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/20 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|