发明名称 凸块及胶料层制程
摘要 一种凸块及胶料层制程,适用于在一晶圆上制作至少一焊料凸块及图案化之一胶料层,其制程乃先形成图案化之一胶料层于晶圆之主动表面,并暴露晶圆之晶片垫于胶料层之开口中,接着全面性形成一凸块底金属层于晶圆之主动表面,而凸块底金属层系覆盖胶料层之表面、开口之内壁面及晶片垫之表面。接着利用机械研磨的方式,移除位于胶料层之表面的凸块底金属层,而保留位于开口之内壁面及晶片垫之表面的凸块底金属层。接着利用印刷或浸渍的方式填入一焊料于开口之内,并回焊焊料,以将焊料形成一焊料凸块于晶片垫之上。
申请公布号 TW200421570 申请公布日期 2004.10.16
申请号 TW092108082 申请日期 2003.04.09
申请人 威盛电子股份有限公司 发明人 何昆耀;宫振越
分类号 H01L23/28;H01L23/48 主分类号 H01L23/28
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 台北县新店市中正路五三三号八楼