ETCHING RESISTANT FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, SURFACE CURED RESIST PATTERN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME,申请号AU20030211349-传众专利搜索

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发明名称	ETCHING RESISTANT FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, SURFACE CURED RESIST PATTERN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
摘要
申请公布号	AU2003211349(A1)	申请公布日期	2004.09.17
申请号	AU20030211349	申请日期	2003.02.28
申请人	FUJITSU LIMITED	发明人	KOJI NOZAKI;MASAYUKI TAKEDA
分类号	B44C1/22;G03F7/40;H01L21/027;H01L21/3065;H01L21/8247;(IPC1-7):H01L21/306	主分类号	B44C1/22
代理机构		代理人
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