发明名称 光阻剂用含氟聚合物之制造方法
摘要 本发明系提供含氟聚合物之新颖的制造方法,更详细系有关在真空紫外领域,特别是F2雷射光(157nm)下为透明,且对于硷显像液之溶解性优异之光阻用之含氟聚合物的制造方法及含有该光阻用之含氟聚合物的光阻组成物。该制造方法为制造在聚合物主链上具有脂肪族环结构之重复单位(M2)的含氟聚合物,且聚合物中具有利用酸进行反应之酸反应性基Y^1或可转变为酸反应性基Y^1之基Y^2的光阻用含氟聚合物时,将含有可将脂肪族环结构供给聚合物主链之单体(m2)之单体混合物在自由基聚合引发剂的存在下,同时在下述式(1):R–(X)n(式中,R为选自碳数1~20之可含有醚键的烃基者,氢原子之一部分可被氟原子取代之烃基;X系选自由含氧原子之官能基及取代或非取代之胺基所成群之至少一种的官能基;n为1~4之整数)表示之连链移动剂之共同存在下,进行自由基聚合为特征之对显影液之溶解性优异之光阻用含氟聚合物之制造方法。
申请公布号 TW200417551 申请公布日期 2004.09.16
申请号 TW093100926 申请日期 2004.01.14
申请人 大金工业股份有限公司 发明人 荒木孝之;石川卓司;鸟海实
分类号 C08F20/22 主分类号 C08F20/22
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本
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