发明名称 | 基板处理装置和基板处理方法 | ||
摘要 | 在本发明中,由于相应于基板的种类进行气缸的切换,所以能够防止在基板的成品区域转印支持销的痕迹。此外,在本发明中,由于以平台为基准驱动支持销升降,所以能够使气缸的驱动量比较少,而且能够极力抑制微粒的产生。 | ||
申请公布号 | CN1525528A | 申请公布日期 | 2004.09.01 |
申请号 | CN200410004100.8 | 申请日期 | 2004.02.09 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 西冈慎二;坂井光广;村上卓人;田尻健一 |
分类号 | H01L21/00;G02F1/136 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 胡强;杨松龄 |
主权项 | 1.一种基板处理装置,其特征在于,具备:保持部,被设置成能够升降,并且至少保持基板的周缘部;第1驱动部,驱动所述保持部的升降动作;第1支持部件,支持基板的第1区域;第2支持部件,支持与基板的所述第1区域不同的第2区域;第2驱动部,相应地切换所述第1支持部件和所述第2支持部件并使其相对于所述保持部升降。 | ||
地址 | 日本东京都 |