发明名称 基板处理装置和基板处理方法
摘要 在本发明中,由于相应于基板的种类进行气缸的切换,所以能够防止在基板的成品区域转印支持销的痕迹。此外,在本发明中,由于以平台为基准驱动支持销升降,所以能够使气缸的驱动量比较少,而且能够极力抑制微粒的产生。
申请公布号 CN1525528A 申请公布日期 2004.09.01
申请号 CN200410004100.8 申请日期 2004.02.09
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 西冈慎二;坂井光广;村上卓人;田尻健一
分类号 H01L21/00;G02F1/136 主分类号 H01L21/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 胡强;杨松龄
主权项 1.一种基板处理装置,其特征在于,具备:保持部,被设置成能够升降,并且至少保持基板的周缘部;第1驱动部,驱动所述保持部的升降动作;第1支持部件,支持基板的第1区域;第2支持部件,支持与基板的所述第1区域不同的第2区域;第2驱动部,相应地切换所述第1支持部件和所述第2支持部件并使其相对于所述保持部升降。
地址 日本东京都