发明名称 | 数据存储盘的反转光学母盘的制造 | ||
摘要 | 一种数据存储母盘以及制作数据存储母盘(20)的方法。数据存储母盘用在数据存储盘的复制工艺中。数据存储盘模压工艺制得的拷贝盘具有由拷贝平台和拷贝槽构成的表面凹凸结构。所述方法包括下列步骤:提供母基底(32);用一层感光材料(30)至少部分地覆盖所述母基底;在所述数据存储母盘中刻录由母平台(34)和母槽(36)构成的表面凹凸结构,包括所述感光材料的曝光和冲洗步骤;控制特定厚度的感光材料的曝光和冲洗,使形成的母槽一直延伸到母基底和感光材料层之间的基底界面上,并使母槽在基底界面处的宽度等于拷贝平台所需的宽度。 | ||
申请公布号 | CN1161769C | 申请公布日期 | 2004.08.11 |
申请号 | CN99804611.6 | 申请日期 | 1999.04.02 |
申请人 | 伊美申公司 | 发明人 | 贾塞恩·D·爱德华 |
分类号 | G11B7/26;G11B7/007 | 主分类号 | G11B7/26 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李德山 |
主权项 | 1、一种制作用在反转数据存储母盘模压工艺中的数据存储母盘(20)的方法,其中,所述数据存储母盘(20)具有母平台(34)和母槽(36),其中,所述数据存储盘模压工艺制得的拷贝盘(134)具有由拷贝平台(136)和拷贝槽(138)构成的表面凹凸结构,所述表面凹凸结构的取向与所述数据存储母盘(20)的取向相反,所述方法包括下列步骤:提供母基底(32);用一层感光材料(30)覆盖所述母基底;在所述数据存储母盘(20)中刻录由母平台(34)和母槽(36)构成的表面凹凸结构(22),包括所述感光材料(30)的曝光和冲洗步骤;控制特定厚度的感光材料(30)的曝光和冲洗,使形成的母槽(36)一直延伸到母基底(32)和感光材料(30)层之间的基底界面(42)上,并使母槽(36)在基底界面(42)处的宽度相应于拷贝平台(136)所需的宽度,这包括使感光材料(30)曝光以获得由母基底(32)形成的与母平台顶相比宽而平的母槽底(42)的步骤。 | ||
地址 | 美国明尼苏达州 |