发明名称 | 用于正性光刻胶的混合溶剂体系 | ||
摘要 | 一种适用作光刻胶的光敏正性的组合物,其中包括至少一种成膜树脂、至少一种光敏剂和含大于50%重量的亚烷基二醇烷基醚和低于50%重量的或烷氧基丙酸烷基酯或烷基戊基酮的光刻胶溶剂混合物,以及一种制备这种光刻胶组合物的方法。 | ||
申请公布号 | CN1160597C | 申请公布日期 | 2004.08.04 |
申请号 | CN99812005.7 | 申请日期 | 1999.10.02 |
申请人 | 克拉里安特国际有限公司 | 发明人 | J·N·艾尔贝克;A·D·迪奥赛斯 |
分类号 | G03F7/004 | 主分类号 | G03F7/004 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
主权项 | 1.一种正性光刻胶组合物,主要包括如下成分的混合物:a)以光刻胶组合物的固体部分为基准,15-99%重量的至少一种成膜树脂,b)以光刻胶组合物的固体部分为基准,1-85%重量的至少一种光敏剂成分,以及c)以组合物总重量为基准,40-90%重量的光刻胶溶剂混合物,所述溶剂混合物的70-90%重量是C1-C4亚烷基二醇C1-C4烷基醚,溶剂混合物其余成分为由C1-C4烷基戊基酮或C1-C4烷氧基丙酸C1-C4 烷基酯组成。 | ||
地址 | 瑞士穆腾茨 |