| 发明名称 | 掩模及其制造方法、场致发光装置及其制造方法以及电子机器 | ||
| 摘要 | 一种掩模的制造方法，其中包括：在形成了开口(12)的第一衬底(10)上，安装形成了多个贯通孔(22)的第二衬底(20)。把多个贯通孔(22)配置在开口(12)的内侧。可以通过阳极接合接合第一和第二衬底(10、20)。通过第一和第二对准标记(14、24)，对位、安装第一和第二衬底(10、20)。可提供强度大的掩模及其制造方法、EL装置及其制造方法以及电子机器。 | ||
| 申请公布号 | CN1514675A | 申请公布日期 | 2004.07.21 |
| 申请号 | CN02142598.1 | 申请日期 | 2002.09.24 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 四谷真一 |
| 分类号 | H05B33/10 | 主分类号 | H05B33/10 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种掩模的制造方法，其中，包括：在形成了开口的第一衬底上安装形成了多个贯通孔的第二衬底；把所述多个贯通孔配置在所述开口的内侧。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||