发明名称 Forno de campo magnético e processo de utilização do mesmo para fabricação de substratos semicondutores
摘要 "FORNO DE CAMPO MAGNéTICO E PROCESSO DE UTILIZAçãO DO MESMO PARA FABRICAçãO DE SUBSTRATOS SEMICONDUTORES". São providos um aparelho e processo para fabricação de um substrato semicondutor, tal como cristais de trama. O aparelho inclui uma câmara e um conjunto de hardware de desenvolvimento, alojados dentro da câmara. Um sistema de campo magnético produz um campo magnético dentro da câmara.
申请公布号 BR0116594(A) 申请公布日期 2004.07.06
申请号 BR20010116594 申请日期 2001.12.28
申请人 EBARA SOLAR, INC. 发明人 HILTON F. GLAVISH;HIDEYUKI ISOZAKI;KEIJI MAISHIGI;KENTARO FUJITA
分类号 C30B29/06;C30B15/00;C30B15/30;C30B29/02;C30B29/64;C30B30/04;(IPC1-7):C30B15/00 主分类号 C30B29/06
代理机构 代理人
主权项
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