发明名称 |
Forno de campo magnético e processo de utilização do mesmo para fabricação de substratos semicondutores |
摘要 |
"FORNO DE CAMPO MAGNéTICO E PROCESSO DE UTILIZAçãO DO MESMO PARA FABRICAçãO DE SUBSTRATOS SEMICONDUTORES". São providos um aparelho e processo para fabricação de um substrato semicondutor, tal como cristais de trama. O aparelho inclui uma câmara e um conjunto de hardware de desenvolvimento, alojados dentro da câmara. Um sistema de campo magnético produz um campo magnético dentro da câmara. |
申请公布号 |
BR0116594(A) |
申请公布日期 |
2004.07.06 |
申请号 |
BR20010116594 |
申请日期 |
2001.12.28 |
申请人 |
EBARA SOLAR, INC. |
发明人 |
HILTON F. GLAVISH;HIDEYUKI ISOZAKI;KEIJI MAISHIGI;KENTARO FUJITA |
分类号 |
C30B29/06;C30B15/00;C30B15/30;C30B29/02;C30B29/64;C30B30/04;(IPC1-7):C30B15/00 |
主分类号 |
C30B29/06 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|