发明名称 电致发光装置
摘要 一种3,4-聚伸烷二氧吩分散液,其包含聚阴离子和阳离子性之3,4-聚伸烷二氧吩,特别是式(I)者:其中 n为由3至100的整数,较佳4至15,及 X为-(CH2)x-CR1R2-(CH2)y-,其中 R1及R2互相独立地为H、一具有1至20个碳原子之视情况经取代之烷基、一具有6至14个碳原子之芳基或-CH2-OR3,其中R3=H、烷基或-CH2-CH2-CH2-SO3H,及 x及y各自互相独立地为0至9之整数,其中至少90%之颗粒为<50奈米,可被用于具有长使用寿命及高光度之电致发光装置中。
申请公布号 TW595029 申请公布日期 2004.06.21
申请号 TW091101199 申请日期 2002.01.25
申请人 拜耳厂股份有限公司 发明人 锺佛瑞;艾斯纳;伍索尔;威尔曼
分类号 H01L51/30 主分类号 H01L51/30
代理机构 代理人 蔡中曾 台北市大安区敦化南路一段二四五号八楼
主权项 1.一种包含聚阴离子和阳离子性3,4-聚伸烷二氧吩之分散液,其特征在于至少90%之分散液颗粒为<50奈米。2.根据申请专利范围第1项之分散液,其中至少90%之颗粒为<40奈米。3.根据申请专利范围第1项之分散液,其中其特征在于由其所制造之涂层的电阻为>5000公分。4.根据申请专利范围第1项之分散液,其特征在于3,4-聚伸烷二氧吩为式(I)之化合物其中n为由3至100的整数,及X为-(CH2)x-CR1R2-(CH2)y-,其中R1及R2互相独立地为H、一具有1至20个碳原子之视情况经取代之烷基、一具有6至14个碳原子之芳基或-CH2-OR3,其中R3=H、烷基或-CH2-CH2-CH2-SO3H,及x及y各自互相独立地为0至9之整数。5.根据申请专利范围第4项之分散液,其中n为由4至15的整数。6.根据申请专利范围第1项之分散液,其特征在于彼等为3,4-聚伸烷二氧吩/聚苯乙烯磺酸酯分散液。7.根据申请专利范围第1项之分散液,其特征在于阳离子性3,4-聚伸烷二氧吩对聚阴离子之比例为介于1:8和1:25之间。8.一种包含电洞注入层之电致发光装置,其特征在于电洞注入层系由根据申请专利范围第1项之分散液所制造。9.根据申请专利范围第8项之电致发光装置,其特征在于聚茀及/或聚-对-伸苯基乙烯被用作发光体层。
地址 德国