发明名称 积层体
摘要 一种积层体,其系由基材上设置一种结构所成,该结构系由将一种含有水溶性高分子的涂覆剂涂布在二层蒸镀薄膜层之间以形成阻气性中间层而成。
申请公布号 TW592977 申请公布日期 2004.06.21
申请号 TW091106980 申请日期 2002.04.08
申请人 凸版印刷股份有限公司 发明人 佐佐木昇;谷崎真一郎;大桥政之;铃木浩;吉永雅信;小森常范
分类号 B32B9/00;B32B15/08 主分类号 B32B9/00
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种积层体,其包括一由塑胶材料所构成之基材, 一设置于该基材上之第1蒸镀薄膜层,一涂布至少 包含水溶性高分子之涂覆剂所形成之阻气性中间 层,及一设置于该中间层上之第2蒸镀薄膜层,其中 该中间层与该第1蒸镀薄膜层之厚度比例,及该中 间层与该第2蒸镀薄膜层之厚度比例,分别在1/0.005 至1/0.25之范围内,且该第1及第2蒸镀薄膜层系包含 选自由铝、铜、银、铟钽氧化物、氧化铝、氧化 矽及氧化镁所构成之群组中至少1种。2.如申请专 利范围第1项之积层体,其中该中间层具有200至600nm 之厚度。3.如申请专利范围第1项之积层体,其中该 中间层系涂布主要包含水溶性高分子、与含有 i)1 种以上之金属烷氧化物及其加水分解物以及 ii)氯 化锡中至少一者之水溶液及水-醇混合溶液之1种 的涂覆剂而得之层。4.如申请专利范围第3项之积 层体,其中该金属烷氧化物系包含四乙氧基矽烷及 三异丙氧基铵之至少1种。5.如申请专利范围第1项 之积层体,其中该水溶性高分子为聚乙烯醇。6.如 申请专利范围第1项之积层体,其中于该基材与第1 蒸镀薄膜层之间,更包含底层。7.如申请专利范围 第6项之积层体,其中该底层系包含丙烯酸多醇及 聚酯多醇之中1种、异氰酸酯化合物、与矽烷偶合 剂之复合物。8.如申请专利范围第7项之积层体,其 中该矽烷偶合剂系具有与丙烯酸多醇之羟基、聚 酯多醇之羟基、及异氰酸酯化合物之异氰酸酯基 中至少1种反应之有机官能基。9.如申请专利范围 第8项之积层体,其中该有机官能基系异氰酸酯基 、环氧基及胺基中至少1种。10.如申请专利范围第 7项之积层体,其中于该复合物中添加有反应触媒 。11.如申请专利范围第10项之积层体,其中该反应 触媒为锡化合物。12.如申请专利范围第11项之积 层体,其中该锡化合物为氯化锡、羟基氯化锡、锡 烷氧化物。13.如申请专利范围第1项之积层体,其 中于该第2蒸镀层上,进一步具有涂布至少包含水 溶性高分子之涂覆剂而形成之阻气性被覆层。14. 如申请专利范围第13项之积层体,其中该中间层系 涂布主要包含水溶性聚合物、与包含 i)1种以上之 金属烷氧化物及其加水分解物以及 ii)氯化锡中至 少一者之水溶液、及水-醇混合溶液之1种的涂覆 剂而得之层。15.如申请专利范围第14项之积层体, 其中该金属烷氧化物系包含四乙氧基矽烷及三异 丙氧基氨中至少1种。16.如申请专利范围第13项之 积层体,其中该水溶性高分子为聚乙烯醇。17.如申 请专利范围第1项之积层体,其中该第1及第2蒸镀薄 膜层为透明的。18.如申请专利范围第1项之积层体 ,其中该第1及第2蒸镀薄膜层至少有一层具有遮光 性。19.如申请专利范围第1项之积层体,其中于该 第2蒸镀层上设置热熔融性树脂层。20.如申请专利 范围第13项之积层体,其中于该阻气性被覆层上设 置热熔融性树脂层。21.如申请专利范围第1项之积 层体,其中于使用墨康法、在40℃温度、90%湿度条 件下测定之情况下,具有0.2(g/m2day)以下之水蒸气 透过率。22.如申请专利范围第1项之积层体,其中 该第1蒸镀薄膜层系由与该第2蒸镀薄膜层相异之 材料所构成。23.如申请专利范围第1项之积层体, 其中该第1蒸镀薄膜层系由与该第2蒸镀薄膜层相 同之材料所构成。24.如申请专利范围第1项之积层 体,其中该第1蒸镀薄膜层及该第2蒸镀薄膜层中至 少一者系实质上由选自由铝、铜及银所构成之群 组之金属蒸镀薄膜层所构成。25.如申请专利范围 第24项之积层体,其中该金属蒸镀薄膜层系具有5至 15nm之厚度。26.如申请专利范围第1项之积层体,其 中该第1及第2蒸镀薄膜层系由包含选自由铟钽氧 化物、氧化铝、氧化矽及氧化镁所构成之群组中 至少1种之透明层所构成。27.如申请专利范围第1 项之积层体,其中该第1及第2蒸镀薄膜层系包含选 自由铝、氧化铝、氧化矽及氧化镁所构成之群组 中至少1种。28.如申请专利范围第1项之积层体,其 中于该第2蒸镀薄膜层上,更设置阻气性中间层及 第3蒸镀薄膜层。29.如申请专利范围第1项之积层 体,其中于该第2蒸镀薄膜层上,更设置第3蒸镀薄膜 层。图式简单说明: 第1图系显示表示本发明之积层体之第1范例的剖 面图。 第2图系显示表示本发明之积层体构造之第2范例 的剖面图。 第3图系显示表示本发明之积层体构造之第3范例 的剖面图。 第4图系显示表示本发明之积层体构造之第4范例 的剖面图。 第5图系显示表示本发明之积层体构造之第5范例 的剖面图。 第6图系显示表示本发明之积层体构造之第6范例 的剖面图。 第7图系显示表示本发明之积层体构造之第7范例 的剖面图。 第8图系显示表示本发明之积层体构造之第8范例 的剖面图。 第9图系显示表示本发明之积层体构造之第9范例 的剖面图。 第10图系显示表示本发明之积层体构造之第10范例 的剖面图。 第11图系显示表示本发明之积层体构造之第11范例 的剖面图。
地址 日本
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