发明名称 薄膜晶体管阵列面板及其制造方法
摘要 本发明公开了一种薄膜晶体管阵列面板及其制造方法。其中,在基板上形成有包括下和上薄膜的栅线和连接栅线的栅短路条。顺序形成栅绝缘层、半导体和欧姆接触部。在其上形成包括下和上薄膜的数据线和连接数据线的数据短路条。在数据线和数据短路条上形成钝化层。对该钝化层和该栅绝缘层构图而形成暴露栅线和数据线的下薄膜的接触孔。用于与驱动电路连接的栅线和数据线的连接部分相对于接触孔与短路条相对。
申请公布号 CN1501153A 申请公布日期 2004.06.02
申请号 CN03164981.5 申请日期 2003.08.27
申请人 三星电子株式会社 发明人 金东奎
分类号 G02F1/136;H01L21/02 主分类号 G02F1/136
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李晓舒;魏晓刚
主权项 1.一种薄膜晶体管阵列面板,包括:形成在绝缘基板上的多个栅线;形成在栅线上的栅绝缘层;形成在栅绝缘层上的半导体层;至少部分形成在半导体层上的多个数据线;至少部分形成在半导体层上的多个漏电极;连接漏电极的多个像素电极;以及多个导线,每个导线连接栅线和数据线之一并包括电阻不同的第一和第二部分。
地址 韩国京畿道